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半导体器件生产车间，由于尘埃吸附在芯片上，集成电路（IC）尤其是超大规模集成电路(VLSI)的成品率会大大下降。尘埃吸附，最大的原因是由于静电。北京艾尔利达根据多年经验给出合适的静电解决方案以及最好的静电消除器设备。

而IC受到ESD时，放电回路的电阻通◆常都很小，无法限制放电电流。例如将带静电的电缆插︾到电路接口上时，放电回路的电阻几乎为零，这将造成高达几十安培的瞬间放电尖峰电流流入相应的IC管脚。瞬间大电流会严重损伤IC，局部发热的热量甚至会融化硅片管芯。ESD对IC的损伤一般还包括内部金属连接被烧断、钝化层被破坏、晶体管单元被烧坏等。 静电给半导♀体材料行业带来了难以估计的损失。

静电解决方案：

建议在∴生产流水线使用专门的静电消除器设备——离子风机。它们利用高压电离出空气中的√电荷与物体上的静电电荷相中和，从而达到消除静电的目的，具有快速、稳定的特点。

离子风机的选择要求，离子平衡度，跟静电消散时间必须达标，根据市场调研，韩国DIT是专门针对半导体、电子行业研发的静电消除器设备，在电子行业大量应用

AMF90离子风机：超高离子平衡度：低于30V，离子平衡度可调整。

AMF-AE 离子风机：超高离子平衡度：低于平均30V，大范围除静电：200mm-1500mm可调节。

ASF-AD/PD单头离子风机：超高离子平衡度：低于10V，多级风速调节：5级风量可调（采用了120mm风扇，最大可达4.6m3/min）

如果空间狭小可以选择：袖珍型离子风机〇：SF-40A袖珍型离子风机，离子平衡度小于±10V！离子平衡度调整：可用十字螺丝刀转动调节。

总的来说，半导体材料静电消除器设备的选择，一定要控制离子平衡度和静电消除散时间，DIT的离子风机是最好的选『择。